印制電路板（PCB）廢水處理方法

1.脫模顯影廢液。脫模顯影廢液主要為顯影、濕膜顯影工序產(chǎn)生的含油大量油墨的高濃度COD廢水。有兩種處理方法：一種為酸析法，利用分流出來的廢酸液摻混進行攪拌，在酸性條件下（pH2.5~3.0），大多有機污染物可以析出：另一種催化法，將反應池中的廢水pH值調至2.5，向池中分別投加FeSO4催化劑、H2O2強氧化劑，反應一定時間后，消化分解廢液中的有機物，清液自動流入有機廢水調節(jié)池進行后續(xù)處理。

2.含氰廢水。此類廢水主要來自沉金工序的清洗過程。廢水主要含有COD及重金屬與氰形成的絡合物（Cu2+、Au2+、CN-）等污染物。此類廢水必須進行破氰處理，可采用堿性氯化法，在堿性條件下，分批投入NaClO氧化劑，使絡合物中的氰離子釋放出來，經(jīng)過兩級反應，使CN-離子生成穩(wěn)定無毒的CO2和N2，從而達到去除CN-的目的。主要反應式如下：

CN^-+ClO^-+H₂O=CNCl↑+2OH^-

CNCl+2OH^-=CNO^-+Cl^-+H₂O

2CNO^-+3ClO^-+H₂O=2CO₂↑+N₂↑+3Cl^-+2OH^-

式①②為一級氧化反應，式③為二級氧化反應。式①產(chǎn)物氯化氫CNCl為易揮發(fā)的有毒物質，且在酸性條件下不穩(wěn)定。式②反應需控制pH值為11.0~12.0，ORP=350mV，反應時間一般在15min內。式③反應需控制pH值為7.0~7.5，ORP=650mV，反應時間為30min。

3.在堿性條件下采用Na2S沉淀工藝。比較CuS、Cu(OH)2的溶度積，lgKsp(CuS)=35.2，lgKsp(Cu(OH)2)=19.66。可見金屬硫化物的穩(wěn)定常數(shù)大，易于沉淀，除銅效率高，且適用的值范圍大（pH值為9.5~11.0）。由于金屬硫化物在酸性條件下不穩(wěn)定，容易產(chǎn)生有毒氣體H2S，因此反應不能在酸性條件下進行。含氰廢水處理后排入綜合池。

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關于水清木華 / About us

青島水清木華環(huán)境工程有限公司成立于2005年。自成立以來，公司堅持以技術為核心，致力于制造業(yè)所產(chǎn)生的工業(yè)廢水的濃縮減量化處理和零排放，及相關環(huán)保設備及藥劑的開發(fā)與制造，為客戶提供技術咨詢、方案設計、工程施工和運營管理等服務。擁有30余項發(fā)明專利和著作權認證證書，被評為“國家高新技術企業(yè)”和“專精特新企業(yè)”。

我們以“工業(yè)廢水濃縮減量、蒸發(fā)結晶和零排放”為主要方向；以工程設備化為目標進行逐步改進、完善；以設備制作、藥劑研發(fā)與生產(chǎn)等滿足客戶需求為增效。公司自主研發(fā)的低溫蒸發(fā)器突破了“零排放”蒸發(fā)結晶的瓶頸，為企業(yè)降低了高難廢水的處理成本，同時對有價值的濃縮母液實現(xiàn)了回收再利用。目前在金剛線生產(chǎn)、磁性材料生產(chǎn)、精密金屬制造等行業(yè)均應用廣泛，以其良好的處理效果和運行的穩(wěn)定性以及低能耗得到了廣大客戶的認可和好評。

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