化學鍍鎳是以次磷酸鹽（或硼氫化鈉，或二甲氨基硼烷DMAB)為還原劑，經過自催化的氧化還原反應而沉積出Ni-P（或Ni-B）合金鍍層的工藝。隨著電子、計算機、石油化工、汽車等工業的迅速發展，化學鍍鎳以每年15%以上的增長速度在發展，是近年來表面處理技術領域中發展最快的工藝之一。與電鍍工藝相比，化學鍍鎳污染低，鎳的利用率高，鍍液中鎳離子的濃度是電鍍鎳1/10以下，Ni-P合金又是一種很好的代鉻鍍層。

化學鍍鎳具備防腐性和耐磨性，還有一定的裝飾性，操作簡便，無論多么復雜的零件，只要鍍液能接觸到，就會有鍍層覆蓋，不會因電流分布不均勻而造成覆蓋能力和分散能力差。國外的商品鍍液品種繁多，按溶液的pH值可分為兩類：

1）堿性化學鍍鎳。pH值為8~9，操作溫度為35~45℃，主要應用于非金屬材料的金屬化，如塑料電鍍、泡沫鎳生產等。

2）酸性化學鍍鎳。pH值為3~5，應用最為廣泛。酸性化學鍍鎳按磷含量分高磷、中磷、低磷三大類。

化學鍍具有優良的分散能力和覆蓋能力，并且設備簡單、操作方便；但是在沉積速度、鍍液穩定性、成本、最大厚度方面不如電鍍。

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